在量子电子器件的研究方面,我国科学家研究了室温条件下单电子隧道效应,单原子单电子隧道结,超高真空STM室温库仑阻塞效应和高性能光电探测器以及原子夹层型量子器件。
清华大学已研制出100nm级的MOS器件,还研制出一系列硅微集成传感器、硅微麦克风、硅微马达、集成微型泵等器件,以及基于微米/纳米三维加工的新技术与新方法的微系统。
中科院半导体所研制了量子阱红外探测器和半导体量子点激光器,物理所已经研制出可在室温下工作的单电子原型器件。西安交通大学制作了碳纳米管场致发射显示器样机,已连续工作了3800小时。
在有机超高密度信息存储器的基础研究方面,中科院北京真空物理实验室、化学所和北京大学等单位的学者,在有机单体薄膜NBPDA上作出点阵,1997年,点径为1.3nm,1998年,点径为0.7nm,2000年,又达0.6nm,信息点直径比国外报导的研究结果小了近一个数量级,是现已实用化的光盘信息存储密度的近百万倍。北京大学采用双组份复合材料(TEA/TCNQ)作为超高密度信息存储器件材料,得到信息点为8nm的大面积信息点阵(3um×3um)的优异成就。复旦大学成功制备了高速高密度存储器用双稳态薄膜。并已经初步选择合成出几种具有自主知识产权的有机单分子材料,可望作为有机纳米集成电路的基础材料。
从我国纳米器件研究的情况来,主要集中在研究基础较好,设备设施相对齐全的研究院所和高校;如中科院有关研究所,北大、清华、复旦、南京大学等。由于投资不足,在硬件设施设备条件技术层次不高的情况下,能取得这些成绩,殊属不易。这些研究工作(Approaches)是"由大到小"(Top down)的工作,因此,总体上来说我国在纳米结构体系上的研究同国外还有较大的差距,特别在"由小到大"(bottom up)的研究工作有待实质性的起动。
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